高純鎢靶和高純鎢鈦靶質量規格說明書
1.用途
高純鎢靶和高純鎢鈦合金靶、鎢硅復合靶材通常被施以磁控濺射的方式制作各種復雜和高性能的薄膜材料。由于高純鎢或超純鎢（5?n或6?n）具有對電子遷移的高電阻、高溫穩定性以及能形成穩定的硅化物，在電子工業中常以薄膜形式用作柵極、連接、過渡和障礙金屬。超高純鎢及其硅化物還用于超大規模集成電路作為電阻層、擴散阻擋層等以及在金屬氧化物半導體型晶體管中作為門材料及連接材料等。鎢鈦合金濺射靶材常用于制作薄膜系太陽能電池的過渡金屬層。
2.規格描述??????????
名稱
分子式
規格
尺寸
相對密度
晶粒度
缺陷率
純鎢靶
w
4n（99.99%）
英寸
毫米
≥99%
≯50μm
0
5n（99.999%）
d（6,8,10,12）
h（0.25,0.5,0.75）
徑150～350
厚度6～25
鎢鈦靶
wti10
4n（99.99%）
≥99%
≯50μm
0
4n5（99.995%）
3.化學成分
???????????規格等級?
化學指標
?w/(w+ti)≥99.99%
?w/(w+ti)≥99.995%
?w≥99.999%
痕量雜質總和
≯100?ppm
≯50?ppm
≯10?ppm
雜質指標(ppm)
最大值
典型值
最大值
典型值
最大值
典型值
放射性元素
u
—
0.2
0.1
0.05
0.0008
0.0005
th
—
0.2
0.1
0.05
0.0008
0.0005
堿金屬元素
li
1
0.05
0.02
0.01
0.01
0.003
na
5
1
0.5
0.2
0.1
0.05
k
5
1
0.1
0.05
0.05
0.03
mo，re
10
5
10
5
1
0.5
fe，cr
10
5
5
3
0.5
0.3
ca，si，cu，ni，al，zn，sn，mn，co，hg，v
2
1
0.5
0.3
0.2
0.2
p，as，se
2
1
0.5
0.2
0.2
0.2
b，pb，sb，be，ba，bi，cd，ge，nb，pt，mg，zr，au，in，ga，ag
1
0.5
0.5
0.1
0.1
0.1
其它所有單個元素
1
0.5
0.5
0.1
0.1
0.1
根據使用目的不同，對高純鎢靶和鎢鈦靶雜質含量有不同要求，一般要求化學純度在99.99%～99.999%之間，我們也可根據用戶要求特別定制適合應用的其它規格。

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長沙歐泰稀有金屬有限公司

13875973538
湖南長沙市天心區暮云鎮新興科技產業園C3-603

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