加工定制是	品牌TATUNG
型號PVD-090-HMDS	功率3000W
材質316不銹鋼	溫度范圍RT+10～250℃℃
主要用途半導體，電子	產品認證已認證

電腦式hmds涂膠烤箱hmds真空烘箱
hmds預處理真空烘箱（hmds真空鍍膜機）
（電腦式hmds涂膠烤箱）
一、hmds 預處理系統的必要性：
在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝顯得更為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑hmds(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將hmds涂到硅片表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。
二、產品特點：
1)外殼sus304不銹鋼材質，內膽316l不銹鋼材料；采用c型不銹鋼加熱管,均勻分布在內膽外壁，內膽內無任何電氣配件及易燃易爆裝置；采用鋼化、防彈雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內物品實驗情況。無發塵材料，適用百級光刻間凈化環境使用。
2)箱門閉合松緊能調節，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內保持高真空度。
3) 溫度采用微電腦pid控制,系統具有自動控溫,定時,超溫報警等,lcd液晶顯示,觸摸式按鈕,簡單易用,性能穩定可靠.
4)智能化觸摸屏控制系統配套日本三菱plc模塊可供用戶根據不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時間。
5)hmds氣體密閉式自動吸取添加設計，使真空箱密封性能極好，確保hmds氣體無外漏顧慮。
三、技術參數：
型號：pvd-090-hmds，容積90l，控溫范圍r.t.+10～250℃，溫度分辨率：0.1℃
控溫精度：±0.5℃，托架數量：2pcs，真空度：<133pa（真空度范圍100～100000pa）
，真空泵：dm4（外置，316不銹鋼波紋管連接），電源：ac220/50hz，額定功率：3.0kw
內膽尺寸mm：450x450x450 （w*d*h），外形尺寸mm：650x640x910 （w*d*h）
四、hmds預處理系統的原理：
hmds預處理系統通過對烘箱hmds預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
五、hmds預處理系統的一般工作流程：
首先確定烘箱工作溫度。典型的預處理程序為：打開真空泵抽真空，待腔內真空度達到某一高真空度后，開始充入氮氣，充到某低真空度后，再次進行抽真空、充入氮氣的過程，到達設定的充入氮氣次數后，開始保持一段時間，使硅片充分受熱，減少硅片表面的水分。然后再次開始抽真空，充入hmds氣體，在到達設定時間后，停止充入hmds藥液，進入保持階段，使硅片充分與hmds反應。當達到設定的保持時間后，再次開始抽真空。充入氮氣，完成整個作業過程。hmds與硅片反應機理如圖：首先加熱到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后hmds與表面的oh一反應，在硅片表面生成硅醚，消除氫鍵作，從而使極性表面變成非極性表面。整個反應持續到空間位阻(三甲基硅烷基較大)阻止其進一步反應。
六、尾氣排放：多余的hmds蒸汽（尾氣）將由真空泵抽出，排放到專用廢氣收集管道。在無專用廢氣收集管道時需做專門處理。
七、產品操作控制系統平臺配置:
dm4直聯旋片式真空泵，aiset溫控器控制溫度,日本三菱可編程觸摸屏操作模塊，固態繼電器，加急停裝置。
選購件：富士溫控儀表（溫度與plc聯動）、三色燈、壓力記錄儀和溫度記錄儀。
其它選配：
1）加急停裝置（標配已含）
2）波紋管2米或3米（標配含1米）
3）富士溫控儀表（溫度與plc聯動）
4）三色燈
5）增加hmds液體瓶
6）下箱柜子（304不銹鋼）
7）壓力記錄儀（帶曲線）
8）溫度記錄儀（帶曲線）
備注：選配壓力記錄儀、溫度記錄儀時，因工藝需要改變設備整個外箱結構，請參考實物圖。外殼采用ss41粉末靜電噴涂，內膽采用316l不銹鋼，外箱尺寸為（w*d*h）mm：980x655x1600（含下箱柜高700），下箱柜空置。
其它規格型號技術參數：
pvd-210-hmds，電源電壓：ac380v/50hz，輸入功率：4000w，控溫范圍：室溫+10℃-250℃，溫度分辨率：0.1℃，溫度波動度：±0.5℃，真空度極限：<133pa，容積：210l，內室尺寸（mm）：560*640*600，外形尺寸（mm）：720*820*1050，載物托架：3塊，時間單位：分鐘

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