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半導體制造用小型對準曝光機(接觸式)MA-60F

  • 加工定制:否
  • 型號:MA-60F
  • 最大曬版面積:
  • 電源:
  • 功率:
  • 最大網框尺寸:
  • 光源:
  • 外形尺寸:
  • 產地:
  • 品牌:MIKASA
  • 包裝:
  • 光照均勻度:
  • 類型:

對準曝光機- maskaligner
■特點
■手動操作、接觸式對準曝光機。?
■依照不同需求以及成本考量有 /準直儀型/多面鏡型/整合(積算器)型三種曝光光源。
■有可對應5×5mm~100×100mm以及φ1inch~?6 inch的基板的各類機種。?
■mask holder載臺的更換作業簡單易行,可在1分鐘內完成,適合用于研究開發。?
■對準顯微鏡的對物鏡可對應高對準精度或厚膜等用途,并且有4×、10×、20×三種。
■共通規格
接觸方法
軟性接觸/ 硬性接觸(部分選配)
對準精度
使用對物鏡20×時<1.2μm(m-1s除外)
對準顯微鏡
雙視野顯微鏡對物鏡間隔18~60mm?
(m-1s除外)
曝光波長
多頻率(h.i.g線)
ma系列 半自動型,用于ic少量生產,mems等用途
ma-60f?高解析度?φ6英寸高規格型
規格?基板尺寸 max?φ6 inch
mask尺寸
max 7×7 inch
uv燈箱
?整合型
照度
?>18mw/cm2
照度均一性
硬性接觸
?有
對準點間隔測長功能
?有
uv燈累計光量計
?有
防震臺
?配件
外形尺寸(mm)
?1130w×1650h×800d?
(包含防震臺尺寸)
具體需求請向我司咨詢。
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