※產(chǎn)品用途：
????cnt生產(chǎn)的cvd（真空化學(xué)氣相沉積爐）是一種用于在基片上生成高質(zhì)量tic、sic、sio2、si3n4?專(zhuān)用設(shè)備。淀積溫度能夠較高?(100～1800℃可調(diào)?)?，它已成為機(jī)械制造工業(yè)、冶金工業(yè)、光學(xué)工業(yè)、半導(dǎo)體工業(yè)等領(lǐng)域微電子和光電子領(lǐng)域科研和生產(chǎn)不可缺少的設(shè)備。
????※產(chǎn)品結(jié)構(gòu)：
cnt公司cvd設(shè)備主要由全真空專(zhuān)用不銹鋼腔體，分子泵高真空系統(tǒng)，電源，生長(zhǎng)機(jī)體載體及溫控系統(tǒng)，獨(dú)立排氣和生長(zhǎng)壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)，冷卻循環(huán)水輔助設(shè)備等組成。整機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、抽真空速度快。此設(shè)備控制系統(tǒng)采用邏輯按鈕手動(dòng)控制與工控機(jī)自控控制可選。實(shí)現(xiàn)真空抽氣和鍍膜工藝一體化功能。此設(shè)備可用于制作sio2、si3n4、非晶si：h、多晶si、sic、w、ti-si、gaas、gasb等介電、半導(dǎo)體及金屬膜等。
參數(shù)名稱
單
位
型?????????????????號(hào)
cvd-4-18
cvd-8-18
cvd-12-18
cvd-16-18
cvd-20-18
額定功率
kw
?21
30
45
60
75
額定電壓
v
380
380
380
380
380
最高溫度
℃
1800
1800
1800
1800
1800
工作溫度
℃
≤1700
≤1700
≤1700
≤1700
≤1700
真空度
6.67pa
6.67pa
6.67pa
6.67pa
6.67pa
基片臺(tái)尺寸
直徑
4英寸
8英寸
12英寸
16英寸
20英寸
基片臺(tái)轉(zhuǎn)速
0-20rpm
0-20rpm
0-20rpm
0-20rpm
0-20rpm
保溫材料
v
石墨
石墨
石墨
石墨
石墨
加熱方式
石墨?
石墨?
石墨?
石墨?
石墨
升溫速率
℃/min
≤25
≤25
≤25
≤25
≤25
控溫精度
℃
±1
±1
±1
±1
±1
標(biāo)配
??1、?三路質(zhì)量流量計(jì)?，氮?dú)狻錃狻⒓淄椤鍤?br>2、氣路報(bào)警系統(tǒng)(氫氣和甲烷)、超溫報(bào)警、缺水報(bào)警
選配
1、尾氣處理設(shè)備
2、氣瓶及減壓閥

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西尼特（北京）科技有限公司
丁經(jīng)理
18501253290
五里橋二街一號(hào)院

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